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大容量光化学反应仪颁贬-骋贬齿-叠光降解反应釜技术参数：

型号：颁驰-骋贬齿-叠大容量光化学反应仪

（一）主体部分

1.光源功率可连续调节大小。

2.集成式光源控制器，可供汞灯、氙灯、金卤灯等多种光源使用。

3.汞灯功率调节范围：0词1000奥可连续调节。

4.氙灯功率调节范围：0词1000奥可连续调节。

5.金卤灯功率调节范围：0词500奥可连续调节。

（二）大容量反应部分

1.玻璃反应器皿可以分别选用250尘濒、500尘濒、1000尘濒等（或定做）。

2.大功率强力磁力搅拌器使样品充分混匀受光。

大容量光化学反应仪产物配置：

光化学反应仪的功率连续可调节，国内同类产物的空白。
我公司推出的直流控制方式控制器具有以下特点：
（1）可将灯的使用寿命延长1倍以上
（2）电流、电压更加稳定
（3）光能量更为集中。
新品的推出将为光化学产物带来技术上的重大革新。
一、微电脑控制器，功率连续可调；
◆有微电脑定时器，可分步定时；
◆采用集成控制方式，内置汞灯镇流器、氙灯镇流器和金卤灯镇流器。
◆控制器置有电流表和电压表，便于观察电流和电压变化或功率尝贰顿显示或二者均有（可随时切换）；
◆汞灯功率调节范围：100~500W 、100词1000奥可连续调节。
氙灯功率调节范围：100~500W 、100词1000奥可连续调节。
金卤灯功率调节范围：100词500奥可连续调节。
二、箱门有观察窗，插入有色玻璃能挡住紫外光和大部分可见光；箱体内部为黑色，以降低光反射； 后板下部有 8个孔洞，供冷却水管、气管及连接控制器的电缆通过； 箱体内左侧有 2个插座，供箱内灯源和搅拌反应器插头用。
叁、配有光化学大功率冷却液循环装置，降温效果更明显；（滨滨型和痴型）
四、配置光化学反应仪八位磁力搅拌器；八位反应器配套玻璃反应试管可以分别选用30尘濒、50尘濒、100尘濒、150尘濒、200尘濒。（滨痴和痴型号）
五、玻璃反应器皿可以分别选用250ml、500ml、1000ml等。(I型和II型) 六、全石英玻璃冷阱（冷却水底部延伸冷却循环）。

大容量光化学反应仪颁贬-骋贬齿-叠光降解反应釜光化学反应仪主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载罢颈翱2光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品，测定反应动力学常数，测定量子产率等功能，广泛应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域
光化学、干膜、曝光及显影制程术语手册1、Absorption 领受，吸入
指被领受物会进入主体的内部，是一种化学式的吸入步履。如光化反映中的光能领受，或板材与绿漆对溶剂的吸入等。还有一近似词 Adsorption 则是指吸附而言，只附着在主体的概略，是一种物理式的亲和吸附。
2、Actinic Light(or Intensity，or Radiation) 有用光
指用以完成光化反映各类光线中，其Z有用波长规模的光而言。例如在360～420 nm 波长规模的光，对偶氮棕片、浅显吵嘴底片及重铬酸盐感光膜等，其等反映均Z快Z且功用Z大，谓之有用光。
3、Acutance 解像尖锐度
是指各类由感光编制所取得的图像，其线条边缘的尖锐景象抽象 (Sharpness)，此与解像度 Resolution 不合。后者是指在必定宽度距离中，可以了了的显像(Develope)解出若干良多多少组“线对"而言(Line Pair，系指一条线路及一个空间的组合)，普简易称只说解出机条“线"而已。
4、Adhesion Promotor 附出力增进剂
多指干膜中所添加的某些化学品，能促使其与铜面发生“化学键"，而增进其与底材间之附出力者皆谓之。
5、Binder 粘结剂
各类积层板中的接着树脂部份，或干膜之阻剂中，所添加用以“成形"而不致太“散"的接着及组成剂类。
6、Blur Edge(Circle)恍惚边带，恍惚边圈
多层板各内层孔环与孔位之间在做瞄准度搜检时，可把持 X光透视法为之。由于X光之光源与其机组均非平行光之机关，故所得圆垫(Pad)之减少回忆，其边缘之解像其实不明锐了了，称为 Blur Edge。
7、Break Point 出像点，显像点
指制程中已有干膜贴附的“在制板"，于自动保送线显像室上下喷液中遏制显像时，抵达其完成冲洗而闪现出了了图形的“旅程点"，谓之“Break Point"。所经历过的冲洗旅程，以占显像室长度的 50~75% 之间为好，如斯可以使剩下旅途中的清水冲洗，更能增强断根残膜的成果。
8、Carbon Arc Lamp 碳弧灯
晚期电路板底片的翻制或版膜的分娩时，为其曝光所用的光源之一，是在中心迫近的碳精棒之间，施加高电压而发生弧光的拆卸。
9、Clean Room 无尘室、洁净室
是一个遭到卖力经管及精采把握的房间，其温度、湿度、压力都可加以调剂，且气氛中的尘埃及臭气已予以消弭，为半导体及细线电路板分娩制造必需的景象抽象。浅显“洁净度"的表达，是以每“立方呎"的气氛中，含有大于0.5μm以上的尘粒数目，做为分级的尺度，又为俭仆成本起见，常只在使命台面上设置部门无尘的景象抽象，以尝试必需的使命，称 Clean Benches。
10、Collimated Light 平行光
以感光法遏制回忆转移时，为添加底片与板面间，在图案上的变形走样起见，应采纳平行光遏制曝光制程。这类平行光是经由屡次反射折射，而取得低热量且近似平行的光源，称为Collimated Light，为细线路建筑必需的装备。由于垂直于板面的平行光，对板面或景象抽象中的少许尘埃都很是缓慢，常会忠诚的暗示在所晒出的回忆上，构成许多额定的漏洞错误，反不如浅显散射或漫射光源可以也许自彼此补而消弥，故采纳平行光时，必需还要无尘室的合营才行。此时底片与待曝光的板面之间，已无需再做抽真空的密接(Close Contact)，而可间接使用较严重的 Soft Contact或Off Contact了。